光刻膠新型環(huán)保清洗劑

TD牌新型環(huán)保光刻膠清洗劑

光刻版在使用過程中會粘上光刻膠、灰塵等污染物，影響光刻效果。光刻版表面顆粒大影響到每一個芯片。其顆粒移除率（PRE）需要達到或接近100%。工廠生產(chǎn)的光刻版需要經(jīng)常清洗。為了保證光刻版潔凈，必須定期對光刻版進行清洗，而清洗的效果與清洗工藝在設(shè)備和清洗液選用上的合理配置有著密切的關(guān)系。

一、光刻板清洗工藝：

1.1、原有去除光刻膠及其他有機污染物的方法

對于光刻膠及其他有機污染物，比較常見的方法是：第一種利用丙酮浸泡光刻版，在浸泡的同時可以超聲提高浸泡效果。對于比較干凈的光刻版，浸泡基本就能將有機污染物去除干凈。對于光刻膠較多的光刻版，浸泡只能將光刻膠泡軟，還需要用無塵布或無塵棉蘸丙酮輕輕擦洗，或在光刻版清洗設(shè)備中采用毛刷刷洗，通過外力將頑固的光刻膠去除掉。刷洗完成后，通常采用高壓水沖洗光刻版，通過高壓微細水滴的沖擊力去除仍然吸附在光刻版表面的剩余光刻膠。

第二種辦法采用濃硫酸和過氧化氫的混合物清洗，再用去離子水沖洗，去除光刻膠。隨后的清潔即去除圖案化、檢查和修復(fù)任何殘留在光刻版表面的光刻膠或顆粒污染物。強氧化劑清洗之后再用氫氧化銨噴霧，以抵消殘留酸，然后用去離子水沖洗以消除硫酸銨。

1.2、新型去除光刻膠及其他有機污染物的方法

TD牌新型去除光刻膠清洗液是本公司自主研制開發(fā)的高新技術(shù)產(chǎn)品，具有自主知識產(chǎn)權(quán)，TD牌新型光刻膠清洗液是一種利用分子置換原理達到光刻板除膠、除油、除塵、防氧化的新型清洗技術(shù)。TD牌新型光刻膠清洗液對光刻板表面沒有任何損傷和腐蝕，具有環(huán)保、無污染、無腐蝕性、不燃等優(yōu)異性能，使用安全、高效、環(huán)保。是替代國際國內(nèi)市場上通用丙酮和酸性清洗液的安全性產(chǎn)品。TD牌新型光刻膠清洗液產(chǎn)品優(yōu)點：工作環(huán)境大幅改善，清洗液不用加溫、不用水，可重復(fù)使用、無廢液排放，清洗干凈徹底，安全環(huán)保。使用方法是浸泡清洗、一步完成。

二、光刻版清洗效果：經(jīng)測試在全自動光刻版清洗機上，LED廠家的光刻版進行了清洗，清洗前后在200倍的顯微鏡下效果，如圖所示。能夠很明顯看到，光刻膠被有效去除。

三、結(jié)論

光刻版清洗的新技術(shù)、新材料TD牌新型光刻膠清洗液替代了兩種常用的光刻版清洗工藝材料，達到安全環(huán)保、清洗干凈徹底、清洗液不用加溫、無廢液排放、可重復(fù)使用目的。

包頭市新興新能源科技開發(fā)有限公司

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