產(chǎn)品詳情
目前，氧化亞硅(SiOx)是重要的電子和光學材料和鋰離子電池負極添加劑。傳統(tǒng)上生產(chǎn)氧化亞硅的方法是將單質硅和二氧化硅同摩爾比例混合，然后研磨成微米量級的粉末(顆粒越小混合越均勻，相互間接越緊密越有利于反應)，再在負壓環(huán)境下加熱到1250℃以上的溫度進行歧化反應，溫度越高越快，這樣所形成的氧化亞硅以蒸氣的形式溢出，并被帶到壓力和溫度較低的地方并被冷凝成為氧化亞硅固體
我公司咸陽鴻峰窯爐設備有限公司較早進入這一領域的廠家，與該領域研究的前沿科研院所長期保持交流溝通，爐體的結構設計及工藝實現(xiàn)得到了很多專業(yè)人士的認可，西北工業(yè)大學及哈爾濱工業(yè)大學的教授都給予了很多改進意見，經(jīng)過多年的研究創(chuàng)新，公司現(xiàn)研發(fā)的新一代真空升華設備具有設計合理，運行穩(wěn)定，成品規(guī)格高，良率高，節(jié)能環(huán)保等特點，可規(guī)?；瘧糜诠I(yè)生產(chǎn)領域。
該設備為咸陽鴻峰窯爐設備有限公司開發(fā)的，專業(yè)應用于硅碳原材料一氧化硅制備的設備。
該設備主要應用于真空升華法制備氧化亞硅
該設備溫控精度2度。
該設備溫度控制1700度以內(nèi)。
該設備升溫速率快。
該設備可以可以在真空度下保持穩(wěn)定
該設備產(chǎn)量大、能耗低、經(jīng)過業(yè)內(nèi)驗證，做出的材料品質良好。
設備參數(shù)
1 名稱 HF-RS-A（氧化亞硅專用升華爐）
2 爐型 臥室
3 設備組成 升華系統(tǒng)、加熱系統(tǒng)、溫控系統(tǒng)、真空系統(tǒng)、機械系統(tǒng)、冷卻系統(tǒng)
4 升華系統(tǒng)由燒結區(qū)和收集區(qū)組成。
5 溫控系統(tǒng)采用 PLC 觸屏控制方式
6 加熱系統(tǒng)該設備采用電阻絲加熱
7 真空系統(tǒng)真空泵真空閥門及管路組成
8 機械部分區(qū)外殼采用 304 不銹鋼制作
9 冷卻系統(tǒng) 該設備配置兩段的冷卻系統(tǒng)
10 外形尺寸 1600mm*700mm*1600mm (終以設計尺寸為主)
